半導體晶片從智慧手機到汽車等多領域被廣泛應用，半導體曝光機在製程中可說是不可或缺。Canon 於 1970 年成功生產了日本首台半導體曝光機「PPC-1」，今年是 Canon 正式跨足半導體曝光機領域50周年，Canon 也展示了 首台日本生產之半導體曝光機「PPC-1」。
半導體曝光機應用於半導體晶片製造過程中的晶圓曝光。半導體晶片是通過將精細電路圖案曝光在晶圓的半導體基板上而製成的。半導體曝光設備的功能是將在光罩上繪製的電路圖案通過投影透鏡縮小，再將圖案曝光在晶圓上，半導體曝光機也需具備超高精密的技術，以滿足從微米到奈米單位級別的性能。
Canon 曝光機的歷史奠基於20世紀60年代中期在相機鏡頭開發所累積的光學技術，Canon 研發出用於光罩製造的高解析度鏡頭。此後，為了進一步擴大業務範圍，Canon 針對晶圓的積體電路製造，開始半導體曝光機的研發，並於 1970 年成功發售日本首台半導體曝光機「PPC-1」，正式跨足半導體曝光機領域。
目前 Canon 的曝光機包括 i 線曝光機和 KrF 曝光機產品線，並根據時代的需求不斷擴大應用範圍。未來，Canon 表示，將繼續擴充半導體曝光機的產品陣容和功能，以支援各種尺寸和材料的晶圓以及下一代封裝技術。此外，在高科技發展領域為滿足電路圖案進一步微細化的需求，Canon 也致力於奈米壓印半導體製造設備的研發，使其能應用於大規模生產。
新聞來源: https://tw.news.yahoo.com/canon-%E6%85%B6%E7%A5%9D-ppc-1-%E4%B8%8A%E5%B8%82-50-%E5%91%A8%E5%B9%B4-%E5%B0%87%E8%87%B4%E5%8A%9B%E6%93%B4%E5%85%85%E5%8D%8A%E5%B0%8E%E9%AB%94%E6%9B%9D%E5%85%89%E6%A9%9F%E9%99%A3%E5%AE%B9-151250898.html
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